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2006年2月 2日
ソニー・東芝・NECエレクトロニクス、45nmプロセス技術を共同開発
・45ナノメートル世代のシステムLSIプロセス技術の共同開発について（Sony Japan）
・４５ナノメートル世代のシステムＬＳＩプロセス技術の共同開発について（東芝）
・４５ナノメートル世代のシステムＬＳＩプロセス技術の共同開発について（NEC）
NECエレクトロニクス、ソニーおよび東芝は、45ナノメートル世代に対応するシステムLSIプロセス技術を共同開発することで合意したと発表しました。この合意により、ソニーと東芝の共同開発に、NECエレクトロニクスの45nm開発要員が参画。3社の開発リソースを東芝アドバンストマイクロエレクトロニクスセンターに集結させ、45nm世代のシステムLSIプロセス技術開発を共同で推進し、開発効率の向上と開発スピードのさらなる加速を図るとしています。
投稿者 SPA : 2006年2月 2日 09:58 : カテゴリー ソニー全体
